SIMS 4550

CAMECA SIMS 4550, Si, high-k, SiGe ve optik cihazlar için III-V gibi diğer bileşik malzemelerdeki ince tabakaların ultra sığ derinlik profillemesi, eser element ve kompozisyon ölçümleri için genişletilmiş yetenekler sunar.

Yüksek derinlik çözünürlüğü ve yüksek verim

Şimdiye kadar küçülen cihaz boyutlarıyla, bugünkü yarı iletkenler'in implant profilleri ve katman kalınlığı genellikle 1-10 nm aralığındadır. SIMS 4550, bu uygulama alanlarına oksijen ve sezyum yüksek yoğunluklu birincil ışın sunarak, 5keV'den 150eV'den daha düşük bir darbe enerjisi programı ile optimize edilmiştir.

Esneklik

CAMECA'nın SIMS 4550, püskürtme koşullarında (darbe açısı, enerji, tür) tam esneklik sağlayan dinamik bir SIMS aletidir.